Depozice tenkých funkčních vrstev pro technologické aplikace

Nízkoteplotní plazma pro depozice tenkých vrstev

Nízkoteplotní plazma je slabě ionizovaný plyn, který obsahuje nabité částice s velkou energií. Tyto unikátní vlastnosti plazmatu jsou využívány k nanášení tenkých vrstev. Depoziční proces probíhá za nízkého tlaku, což mimo jiné umožňuje dosáhnout vysokého stupně čistoty deponovaných struktur. Plazma je generováno elektrickými výboji optimalizovanými pro depoziční proces.

8 Plazma 01 7

 

Tenké vrstvy pro technologické aplikace

Tenkou vrstvou se rozumí vrstva o tloušťce v rozmezí cca 10 nm–1 µm, která zásadně změní vlastnosti povrchu, aniž by ovlivnila strukturu nosného (podkladového) materiálu. Oblasti využití:

  • mikroelektronika  - polovodiče, solární články, transparentní elektrody
  • optické vrstvy - „barevná skla“, filtry, zrcadla, fotoaktivní vrstvy
  • tvrdé ochranné vrstvy - řezné nástroje, exponované části motorů
  • biokompatibilní vrstvy – vrstvy kompatibilní s živým organismem

Plazma 01 7

 

Výzkum moderních nanostrukturovaných materiálů pro bio-technologické aplikace

Nanostrukturované materiály a povrchy reprezentují současný směr výzkumu nových funkčních materiálů. Vlastnosti nanostrukturovaných povrchů vycházejí z rozměrů nanočástic v rozsahu cca 1 – 100 nm. Nanostrukturované povrchy jsou v laboratoři připravovány depozicí nanočástic nebo nastavením podmínek vedoucích k depozici nanostrukturovaného povrchu. Nanostrukturované povrchy lze s výhodou použít při přípravě:

  • katalytických vrstev
  • vrstev se zvýšenou adhezí (např. vazby s chemickými látkami)
  • struktur pro detektory nebo zesilovače
  • povrchů se specifickými optickými vlastnostmi

Další a podrobnější informace:

http://www.prf.jcu.cz/plazma

RNDr. Růžena Štemberková

Mobil: +420 702 027 182

E-mail: This email address is being protected from spambots. You need JavaScript enabled to view it.